不清楚

不清楚

不清楚

不知道的

1. 共聚改性：引入含硅、氟等耐刻蝕單體（如三氟乙基甲基丙烯酸酯），增強分子鏈穩(wěn)定性。

2. 表面防護：沉積 SiO?、SiN 等耐刻蝕薄膜，形成物理屏障。

3. 優(yōu)化刻蝕參數(shù)：降低等離子體功率、調(diào)整反應(yīng)氣體比例，減緩侵蝕速率。

不曉得

不清楚

不清楚

不知道

不懂

1. 使用交聯(lián)型PMMA（Cross-linked PMMA）：

• 原理：通過化學(xué)或輻射方法使線型PMMA分子鏈之間形成三維網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)（C-C交聯(lián)鍵）。這種交聯(lián)結(jié)構(gòu)比原有的酯鍵（-COO-）和碳鏈主干更穩(wěn)定，需要更高的能量才能被破壞，從而***提高抗刻蝕性、耐熱性和機械強度。

• 方法：可以選擇市售的高交聯(lián)度PMMA材料，或者在PMMA中添加交聯(lián)劑（如多官能團單體）并通過紫外線或加熱引發(fā)交聯(lián)。

2. 共聚與共混改性（Copolymerization & Blending）：

• 與高穩(wěn)定性樹脂共混：將PMMA與具有優(yōu)異等離子體穩(wěn)定性的聚合物（如聚酰亞胺（PI）、聚苯并噁唑（PBO）等）進行共混。但這些聚合物通常成本高昂且可能影響透明度。

• 引入芳香環(huán)結(jié)構(gòu)：通過共聚在PMMA分子鏈中引入含有苯環(huán)的單體。芳香環(huán)結(jié)構(gòu)具有較高的鍵能和穩(wěn)定性，能有效抵抗等離子體轟擊。例如，與苯乙烯（Styrene）共聚形成的MS樹脂，其抗等離子體性能優(yōu)于純PMMA。

3. 無機納米復(fù)合材料（Nanocomposites）：

• 物理屏障：納米粒子可以阻擋等離子體中的粒子和高能射線對聚合物本體的直接轟擊。

• 熱穩(wěn)定劑：無機物具有更高的熱穩(wěn)定性和熔點，不易被刻蝕揮發(fā)。

• 自由基淬滅：一些納米粒子可以淬滅等離子體產(chǎn)生的活性自由基，中斷降解反應(yīng)鏈。

• 原理：將無機納米粒子（如二氧化硅（SiO?）、氧化鋁（Al?O?）、二氧化鈦（TiO?））均勻分散到PMMA基體中。

• 作用：

• 挑戰(zhàn)：需要解決納米粒子的分散性和相容性問題，以避免團聚和光學(xué)性能下降。

提高PMMA抗等離子體刻蝕性的方法包括材料改性、表面處理、結(jié)構(gòu)設(shè)計和環(huán)境控制。具體選擇哪種方法取決于實際應(yīng)用需求和成本考慮。通過這些方法，可以有效提高PMMA在等離子體刻蝕過程中的耐受性，延長其使用壽命。

通過化學(xué)改性引入芳香族基團或環(huán)狀結(jié)構(gòu)以增強分子鏈穩(wěn)定性，提高PMMA抗等離子體刻蝕性。?

不懂這個呢

這個行業(yè)不太了解